..

Журнал химических наук

Отправить рукопись arrow_forward arrow_forward ..

Study of SiO2 Etching using Plasma Diagnostics

Abstract

Rami Onkar

Plasma is described as semi-neutral plasma of charged, unbiased particles that exhibits collective behaviour. The distinctive features that distinguish plasma from other release characteristics are applied in many contemporary and research sectors, such as regulating the component particles for specific uses.

Отказ от ответственности: Этот реферат был переведен с помощью инструментов искусственного интеллекта и еще не прошел проверку или верификацию

Поделиться этой статьей

Индексировано в

arrow_upward arrow_upward